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    日本AMAYA天谷制作所 6英寸小直徑晶圓 半導(dǎo)體指定A6300S
    
                                                          
    大型常壓CVD系統(tǒng)，適用于6英寸以下的小直徑晶圓空客A6300S6 英寸吞吐量，每小時(shí) 120 張使用SiC托盤防止重金屬污染的對(duì)策日本AMAYA天谷制作所 6英寸小直徑晶圓 半導(dǎo)體指定A6300S特征針對(duì)小直徑晶圓量產(chǎn)設(shè)備的需求，該連續(xù)常壓CVD系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了每小時(shí)120片晶圓的吞吐量。該裝置既能實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)，又能降低成本，同時(shí)還使用了為實(shí)現(xiàn)大范圍的薄膜沉積區(qū)域而開發(fā)的分散頭和限制托盤數(shù)量的運(yùn)輸系
    
                                                                                                                                                  
                        
    
                
    
            
    
        
    
    
    
    
    
        
    
            
    

                  
                
    
                                        
    
                        
    
                            
                            
    

                                        
                                
    
                                    
    產(chǎn)品信息
    大型常壓CVD系統(tǒng)，適用于6英寸以下的小直徑晶圓
    空客A6300S
    • 6 英寸吞吐量，每小時(shí) 120 張
    • 使用SiC托盤防止重金屬污染的對(duì)策
    圖片關(guān)鍵詞
    日本AMAYA天谷制作所 6英寸小直徑晶圓 半導(dǎo)體指定A6300S
    特征
    • 針對(duì)小直徑晶圓量產(chǎn)設(shè)備的需求，該連續(xù)常壓CVD系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了每小時(shí)120片晶圓的吞吐量。
    • 該裝置既能實(shí)現(xiàn)大規(guī)模生產(chǎn)，又能降低成本，同時(shí)還使用了為實(shí)現(xiàn)大范圍的薄膜沉積區(qū)域而開發(fā)的分散頭和限制托盤數(shù)量的運(yùn)輸系統(tǒng)。
    • 碳化硅托盤的使用使重金屬污染難以發(fā)生。 此外，由于受熱引起的老化很少，可以獲得穩(wěn)定的工藝性能。
    • 標(biāo)配自動(dòng)托盤更換功能，確保工人安全，減少維護(hù)時(shí)間。 此外，自動(dòng)升高頭底座的機(jī)制使其易于清潔。
    性能
    涂層厚度均勻性≦±4.0%
    支持的晶圓尺寸≦6寸
    氣體種類SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2
    沉積溫度350°C~450°C
    生產(chǎn)力120 ppm。
    主要技術(shù)指標(biāo)
    設(shè)備尺寸1500mm（寬） x 2850mm（深） x 2000mm（高）
    加熱機(jī)制電阻加熱
    裝卸機(jī)器人 CtoC 傳輸
    分散頭（氣體噴嘴）A63 頭（標(biāo)配 2 頭）