高生產(chǎn)率常壓CVD系統(tǒng)，實現(xiàn)極致的連續(xù)運行AMAX800V8 英寸高吞吐量，每小時 100 張使用SiC托盤的重金屬污染對策和長期穩(wěn)定的工藝提高可維護性特征通過改進運輸機制實現(xiàn)了高吞吐量。SiH4、PH3、B2H6和O2從AMAX型分散頭分散后混合，經(jīng)過優(yōu)化，在低溫低壓下更有效地產(chǎn)生熱化學(xué)反應(yīng)。 可獲得優(yōu)良的膜厚均勻性和雜質(zhì)濃度均勻性。碳化硅托盤的使用使重金屬污染難以發(fā)生。 此外，由于受熱引起的老
高生產(chǎn)率常壓CVD系統(tǒng)，實現(xiàn)極致的連續(xù)運行
8 英寸高吞吐量，每小時 100 張
使用SiC托盤的重金屬污染對策和長期穩(wěn)定的工藝
提高可維護性
通過改進運輸機制實現(xiàn)了高吞吐量。
SiH4、PH3、B2H6和O2從AMAX型分散頭分散后混合，經(jīng)過優(yōu)化，在低溫低壓下更有效地產(chǎn)生熱化學(xué)反應(yīng)。 可獲得優(yōu)良的膜厚均勻性和雜質(zhì)濃度均勻性。
碳化硅托盤的使用使重金屬污染難以發(fā)生。 此外，由于受熱引起的老化很少，可以獲得穩(wěn)定的工藝性能。
標配自動托盤更換功能，確保工人安全，減少維護時間。 此外，自動升高頭底座的機制使其易于清潔。
| 涂層厚度均勻性 | ≦±3.0% |
|---|---|
| 支持的晶圓尺寸 | 8寸 |
| 氣體種類 | SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2 |
| 沉積溫度 | 350°C~450°C |
| 生產(chǎn)力 | 100 ppm。 |
| 設(shè)備尺寸 | 1460mm（寬） x 3830mm（深） x 2250mm（高） |
|---|---|
| 加熱機制 | 電阻加熱 |
| 裝卸 | 機器人 CtoC 傳輸 |
| 分散頭（氣體噴嘴） | AMAX頭（標配2頭，3頭可選） |