<sup id="8oci4"></sup> 
12英寸連續(xù)大氣壓CVD系統(tǒng)AMAX120012 英寸吞吐量，每小時 51 張使用SiC托盤防止重金屬污染的對策日本AMAYA天谷制作所 半導(dǎo)體12英寸連續(xù)大氣壓CVD系統(tǒng)AMAX1200特征這是傳統(tǒng)AMAX系列中直徑最大的晶圓加工設(shè)備，12英寸。從優(yōu)化后在低溫低壓下產(chǎn)生熱化學(xué)反應(yīng)的A63型分散頭，將SiH4、PH3、B2H6和O2分散混合后進(jìn)行表面反應(yīng)。 可獲得優(yōu)良的膜厚均勻性和雜質(zhì)濃度均勻性。
12英寸連續(xù)大氣壓CVD系統(tǒng)
12 英寸吞吐量，每小時 51 張
使用SiC托盤防止重金屬污染的對策
日本AMAYA天谷制作所 半導(dǎo)體12英寸連續(xù)大氣壓CVD系統(tǒng)AMAX1200
這是傳統(tǒng)AMAX系列中直徑最大的晶圓加工設(shè)備，12英寸。
從優(yōu)化后在低溫低壓下產(chǎn)生熱化學(xué)反應(yīng)的A63型分散頭，將SiH4、PH3、B2H6和O2分散混合后進(jìn)行表面反應(yīng)。 可獲得優(yōu)良的膜厚均勻性和雜質(zhì)濃度均勻性。
碳化硅托盤的使用使重金屬污染難以發(fā)生。 此外，由于受熱引起的老化很少，可以獲得穩(wěn)定的工藝性能。
標(biāo)配自動托盤更換功能，確保工人安全，減少維護(hù)時間。 此外，自動升高頭底座的機制使其易于清潔。
| 涂層厚度均勻性 | ≦±3.0% |
|---|---|
| 支持的晶圓尺寸 | 12寸 |
| 氣體種類 | SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2 |
| 沉積溫度 | ~450°攝氏度 |
| 生產(chǎn)力 | 51 張/小時 FOUP 兼容標(biāo)準(zhǔn)機器 |
| 設(shè)備尺寸 | 2165mm（寬） x 4788mm（深） x 2250mm（高） |
|---|---|
| 加熱機制 | 電阻加熱 |
| 裝卸 | 機器人 CtoC 傳輸 |
| 分散頭（氣體噴嘴） | A63 頭（標(biāo)準(zhǔn) 3 頭） |