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用于高清光掩模的旋轉(zhuǎn)式清洗系統(tǒng)WULF系列清洗液在待清洗表面上高速擴(kuò)散快速消除異物和反應(yīng)產(chǎn)物無(wú)水印干燥日本AMYA天谷制作所 高清光掩模的旋轉(zhuǎn)式清洗系統(tǒng)WULF系列特征隨著LSI性能的不斷提高，光掩模版和掩模版需要具有更高的清晰度和更高的精度。 我們的清潔設(shè)備有助于提高這些產(chǎn)品的高清潔度和產(chǎn)量，我們合作生產(chǎn)更完美的產(chǎn)品。該裝置配備使用功能水的旋轉(zhuǎn)清洗裝置，通過(guò)工件旋轉(zhuǎn)的離心力以及臭氧水和氨添加氫水
用于高清光掩模的旋轉(zhuǎn)式清洗系統(tǒng)
清洗液在待清洗表面上高速擴(kuò)散
快速消除異物和反應(yīng)產(chǎn)物
無(wú)水印干燥
日本AMYA天谷制作所 高清光掩模的旋轉(zhuǎn)式清洗系統(tǒng)WULF系列
隨著LSI性能的不斷提高，光掩模版和掩模版需要具有更高的清晰度和更高的精度。 我們的清潔設(shè)備有助于提高這些產(chǎn)品的高清潔度和產(chǎn)量，我們合作生產(chǎn)更完美的產(chǎn)品。
該裝置配備使用功能水的旋轉(zhuǎn)清洗裝置，通過(guò)工件旋轉(zhuǎn)的離心力以及臭氧水和氨添加氫水的排放，可以去除有機(jī)物、金屬離子和異物，最高可達(dá)檢測(cè)限水平。 通過(guò)在清洗液之間切換，可以高速去除工件上的不純沉積物，廢液管理也是一種安全環(huán)保的工具。
采用
清洗液和清洗方法替代RCA清洗液 SPM→臭氧水 ?實(shí)現(xiàn)完全室溫清洗（無(wú)需高溫處理） ?減少口罩
上的化學(xué)殘留量 ?廢液處理的安全性（ISO14000措施）
SC-1 →氨摻雜氫水
?防止MoSi半色調(diào)掩模的蝕刻
| PSM 最終清潔（無(wú) SPM） | |||
|---|---|---|---|
| 類別 | 不。 | 項(xiàng)目 | 規(guī)范 |
| 空白 | 1 | 無(wú)顆粒 | >32納米 |
| 2 | 預(yù)% | ≧95% | |
| 圖像層 （圖案?jìng)?cè)） | 3 | QZ上的剩余軟缺陷 | ≧0.05um （收益率 ： 98%） |
| 4 | 變速桿上剩余的軟缺陷 | ≧0.05um， ≦10ea （產(chǎn)率 ： 98%） | |
| 5 | SRAF （Dark） 缺失 | 不容錯(cuò)過(guò) | |
| 6 | 圖案損壞、ESD、劃痕 | 無(wú)損壞 | |
| 7 | 換擋桿（相位） | ≦-0.2 度，平均潔凈 10 倍 | |
| 8 | 變速桿更換 （Trans.） | ≦0.025%，平均清潔 10 倍 | |
| 9 | 換檔桿（CD 平均值） | ≦0.15nm，平均10倍純凈 | |
| 10 | 換檔桿（CD 范圍） | ≦0.5nm，平均10倍純凈 | |
| 離子殘留物 | 11 | 化學(xué)殘留物 （SO4） | ≦0.5 ppb |
| 12 | 化學(xué)殘留物 （NH4） | ≦17.0 ppb | |
| 清洗設(shè)備本體 | 7300mm（寬） x 1410mm（深） x 2300mm（高） |
|---|---|
| 電源箱 | 1400mm（寬） x 500mm（深） x 2150mm（高） |
| 化工盒 | 2500mm（寬） x 700mm（深） x 2000mm（高） |
| 過(guò)濾盒 | 2600mm（寬） x 700mm（深） x 2000mm（高） |
| HOT DIW 裝置 | 1250mm（寬） x 550mm（深） x 1750mm（高） |
| 氫水和碳酸水機(jī)組 | 1050mm（寬） x 1500mm（深） x 2000mm（高） |
| 臭氧水機(jī)組 | 570mm（寬） x 850mm（深） x 2000mm（高） |
| 效用 | - 三相 200 V， - 單相 100 V， - DIW， - 冷卻水， - 清潔干燥的空氣， - 氮?dú)猓?- 一般排氣， - 酸性廢氣， - 堿性廢氣 |
|---|