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日本AMAYA天谷制作所株式會(huì)社12英寸連續(xù)常壓CVD設(shè)備12英寸連續(xù)常壓CVD設(shè)備AMAX120012 英寸 每小時(shí) 51 張的吞吐量采用SiC托盤防止重金屬污染的對(duì)策特征這是傳統(tǒng)AMAX系列中直徑最大的12英寸晶圓加工設(shè)備。SiH63、PH4、B3H2和O6混合后，從優(yōu)化的A2型分散頭進(jìn)行表面反應(yīng)，在低溫和低壓下更有效地產(chǎn)生熱化學(xué)反應(yīng)。 可以獲得優(yōu)異的膜厚均勻性和雜質(zhì)濃度均勻性。使用SiC托盤
日本AMAYA天谷制作所株式會(huì)社
12英寸連續(xù)常壓CVD設(shè)備
12英寸連續(xù)常壓CVD設(shè)備
12 英寸 每小時(shí) 51 張的吞吐量
采用SiC托盤防止重金屬污染的對(duì)策
這是傳統(tǒng)AMAX系列中直徑最大的12英寸晶圓加工設(shè)備。
SiH63、PH4、B3H2和O6混合后，從優(yōu)化的A2型分散頭進(jìn)行表面反應(yīng)，在低溫和低壓下更有效地產(chǎn)生熱化學(xué)反應(yīng)。 可以獲得優(yōu)異的膜厚均勻性和雜質(zhì)濃度均勻性。
使用SiC托盤很難發(fā)生重金屬污染。 此外，可以獲得穩(wěn)定的工藝性能，而由于熱引起的老化很小。
標(biāo)配自動(dòng)托盤更換功能，實(shí)現(xiàn)工人安全，縮短維護(hù)時(shí)間。 此外，自動(dòng)抬起頭部底座的機(jī)構(gòu)便于清潔。
| 均勻的薄膜厚度 | ≦±3.0% |
|---|---|
| 支持的晶圓尺寸 | 12寸 |
| 氣體種類 | SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2 |
| 薄膜沉積溫度 | ~450°C |
| 生產(chǎn)力 | 51張/小時(shí)FOUP兼容標(biāo)準(zhǔn)機(jī) |
| 設(shè)備尺寸 | 2165毫米（寬） x 4788毫米（深） x 2250毫米（高） |
|---|---|
| 加熱機(jī)構(gòu) | 電阻加熱 |
| 裝載卸載 | 機(jī)器人 CtoC 運(yùn)輸 |
| 分散頭（氣體噴嘴） | A63 頭（標(biāo)準(zhǔn) 3 頭） |