日本AMAYA天谷制作所株式會社量產(chǎn)6英寸以下小直徑晶圓的常壓CVD設(shè)備A6300S量產(chǎn)6英寸以下小直徑晶圓的常壓CVD設(shè)備A6300S6 英寸 吞吐量為每小時 120 張采用SiC托盤防止重金屬污染的對策特征這是一種連續(xù)常壓CVD系統(tǒng)，可滿足小直徑晶圓批量生產(chǎn)設(shè)備的需求，實(shí)現(xiàn)每小時120片晶圓的吞吐量。該設(shè)備通過運(yùn)輸系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)，該系統(tǒng)最大限度地減少了為實(shí)現(xiàn)各種薄膜沉積區(qū)域而開發(fā)的分散頭和托
日本AMAYA天谷制作所株式會社
量產(chǎn)6英寸以下小直徑晶圓的常壓CVD設(shè)備A6300S
量產(chǎn)6英寸以下小直徑晶圓的常壓CVD設(shè)備
6 英寸 吞吐量為每小時 120 張
采用SiC托盤防止重金屬污染的對策
這是一種連續(xù)常壓CVD系統(tǒng)，可滿足小直徑晶圓批量生產(chǎn)設(shè)備的需求，實(shí)現(xiàn)每小時120片晶圓的吞吐量。
該設(shè)備通過運(yùn)輸系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)，該系統(tǒng)最大限度地減少了為實(shí)現(xiàn)各種薄膜沉積區(qū)域而開發(fā)的分散頭和托盤的數(shù)量，并降低了成本。
使用SiC托盤很難發(fā)生重金屬污染。 此外，可以獲得穩(wěn)定的工藝性能，而由于熱引起的老化很小。
標(biāo)配自動托盤更換功能，實(shí)現(xiàn)工人安全，縮短維護(hù)時間。 此外，自動抬起頭部底座的機(jī)構(gòu)便于清潔。
| 均勻的薄膜厚度 | ≦±4.0% |
|---|---|
| 支持的晶圓尺寸 | ≦6英寸 |
| 氣體種類 | SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2 |
| 薄膜沉積溫度 | 350°C~450°C |
| 生產(chǎn)力 | 120 頁/小時 |
| 設(shè)備尺寸 | 1500毫米（寬） x 2850毫米（深） x 2000毫米（高） |
|---|---|
| 加熱機(jī)構(gòu) | 電阻加熱 |
| 裝載卸載 | 機(jī)器人 CtoC 運(yùn)輸 |
| 分散頭（氣體噴嘴） | A63 頭（標(biāo)準(zhǔn) 2 頭） |